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R&D·기술·디지털
📍 서울특별시
해외출원
특허
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디자인
IP
[서울 센터] [서울]2026년 글로벌 IP스타기업 해외출원 비용지원 사업공고(2차)
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서울지식재산센터
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서울특별시
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마감
~ 2026.05.18 까지
요약
공고문
제출서류
첨부파일
AI 질문
1
사업 개요 및 배경
▶
24년~26년 서울센터 글로벌IP 스타기업 육성 사업에 선정된 기업을 대상으로 해외출원 비용 지원 사업을 시행합니다.
2
지원 대상 및 자격 요건
▶
24년~26년 서울센터 글로벌IP 스타기업 육성 사업 선정 기업
법인기업은 법인 명의, 개인기업은 대표자 명의 출원만 인정
공동출원 시, 공동출원 대상자가 중소기업, 개인사업자(대표자), 대학, 정부출연연구기관인 경우만 지원 가능
국내출원 건 우대, 일부 출원은 국내출원 없이도 지원 가능 (단, 마드리드 국제상표출원 제외)
변경출원, 분할출원, 지정상품 추가등록출원, 출원무효/반려, 출원일 기준 1개월 이내 취하나 포기된 건은 지원 불가
대리인(변리사)이 없는 경우 지원 불가
3
지원 내용 및 규모
▶
해외 특허, 상표, 디자인 출원 비용 일부 지원 및 컨설팅 제공
정부지원금 기준이며, 자부담금 40% 별도 발생
지원 규모 (최대):
특허(PCT): 228만원
특허(유럽): 570만원
특허(일본): 354만원
특허(미국): 402만원
특허(중국): 348만원
특수국: 4200만원
상표: 210만원
디자인: 240만원
4
신청 방법
▶
(내용 없음)
5
평가 및 선정 절차
▶
등록가능성 및 활용가능성 등을 고려하여 지원 여부 결정 (국내출원 건 우대)
제출 서류·신청 양식은
원문 공고문
에서 확인하세요. (사업계획서·사업자등록증·재무제표 등은 사업별로 상이)
원문 공고문 보기
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[양식]2026년 해외출원비용사업 사업추진(활용)계획서.hwp
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2026년 해외 권리화 비용지원사업 안내.hwp
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